Samsung Electronics zet een volgende stap in haar chipproductie: 7-nanometer (nm) LPP (Low Power Plus) met extreem ultraviolet (EUV) lithografietechnologie.
In een verklaring stelde het bedrijf dat 7nm LPP EUV een aanzienlijke vooruitgang betekent ten opzichte van de 10nm-processen, waardoor de efficiëntie tot 40 procent kan worden verhoogd, met 20 procent hogere processorprestaties en een 50 procent lager stroomverbruik. Het nieuwe proces moet volgens Samsung helpen producten te maken die grensverleggend zijn op gebieden zoals 5G, kunstmatige intelligentie, bedrijfs- en hyperscale datacenters, IoT, automotive en netwerken.
De eerste EUV-productie is gestart in Hwaseong, Zuid-Korea. Tegen 2020 verwacht Samsung dat het extra capaciteit heeft gerealiseerd met een nieuwe EUV-reeks voor klanten die behoefte hebben aan grootschalige productie voor de volgende generatie chipontwerpen.
