In Amsterdam komt een onderzoeksinstelling voor nanolithografie. ASML werkt samen met de Stichting voor Fundamenteel Onderzoek der Materie (FOM), de UvA, de VU en NWO. Het Instituut voor Nanolithografie (INL) komt te staan op het Science park in Amsterdam en de eerste jaren voert AMOLF de regie. In 2015 moet het INL zelfstandig zijn. ASML draagt de komende tien jaar ongeveer 30 miljoen euro bij, ruim een derde van het totale budget. FOM en NWO betalen 25 miljoen, de twee universiteiten 12,5 miljoen en de gemeente Amsterdam 5 miljoen euro. Uit andere bronnen moet nog eens 25 miljoen gevonden worden. ASML verwacht dat het INL een bijdrage levert aan de verdere ontwikkeling van de EUV (extreem ultraviolet) lithografie, waarmee de chip-industrie zich aan de Wet van Moore wil houden. De technologie kan patronen etsen in chips waarbij de details kleiner zijn dan de golflengte van de gebruikte lichtbron. ASML, de marktleider in lithografiemachines, heeft Intel, TSMC en Samsung aangetrokken als aandeelhouders en steekt de komende jaren honderden miljoenen euro's in R&D.
